Target sputtering Tantalum (Ta) adalah lempeng logam padat yang digunakan sebagai material sumber dalam physical vapor deposition (PVD). Tantalum adalah logam transisi refraktori yang dikenal dengan titik leleh tinggi, stabilitas kimia, dan ketahanan korosi. Pada proses sputtering, ion menghantam permukaan target sehingga atom terlepas dan mengendap di atas substrat membentuk lapisan tipis.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan penghalang difusi dalam riset mikroelektronika dan perangkat semikonduktor
- Pengembangan resistor lapis tipis dan elektroda kapasitor
- Lapisan pelindung dan tahan korosi pada substrat logam dan kaca
- Studi lapisan tipis fungsional di laboratorium universitas dan industri
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—