Target sputtering tantalum (Ta) adalah cakram atau pelat padat dari tantalum, logam transisi refraktori yang dikenal karena ketahanan korosinya dan perilaku mekanis yang stabil. Dalam physical vapor deposition (PVD), target dibombardir dengan ion berenergi tinggi sehingga atom tantalum terlepas dan terdeposisi pada substrat sebagai lapisan tipis yang seragam. Material ini banyak digunakan dalam riset dan pengembangan lapisan tipis.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Lapisan penghalang difusi dalam mikroelektronika dan riset semikonduktor
- Pengembangan kapasitor dan resistor lapisan tipis
- Lapisan pelindung dan tahan korosi pada substrat logam
- Lapisan tipis optik dan fungsional
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—