Target sputtering timah oksida (tin oxide sputtering target, SnO2) dari Nanografi ini berupa cakram berikatan elastomer dengan kemurnian 99,99%, ukuran 2'' dan ketebalan 0,125''. Target ini menjadi sumber material pada sistem deposisi sputter, di mana atom dikikis dari target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
Deposisi sputter dapat digunakan untuk beragam material dan substrat dengan berbagai bentuk serta ukuran. Prosesnya dapat diulang secara konsisten dan dapat ditingkatkan skalanya, dari proyek riset dan pengembangan berskala kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar. Tergantung parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat.
Banyaknya parameter memang membuat sputtering menjadi proses yang kompleks, namun hal ini memberi para ahli kendali yang besar atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis SnO2 pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Teknik analisis material seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS) untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor berkonsentrasi sangat rendah.
- Riset pelapukan antariksa (space weathering), yaitu proses sputtering yang mengubah sifat benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,99% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01SN25
- Material: Timah Oksida (SnO2)
- Ikatan: Elastomer
- Ukuran: 2''
- Ketebalan: 0,125''
—
—