Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Tin Oxide (SnO2) Sputtering Targets

Tin Oxide (SnO2) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 22.639.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 22.639.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Timah oksida (SnO2) adalah keramik oksida logam dan semikonduktor celah pita lebar bertipe-n, yang banyak diteliti sebagai oksida konduktif transparan. Target sputtering adalah material sumber padat yang rapat, digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis melalui sputtering pada substrat. Material ini umumnya digunakan dalam riset dan pengembangan lapisan tipis yang memerlukan lapisan oksida terkendali.

  • Quantity: 1 piece

Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.

  • Elektroda konduktif transparan untuk layar dan perangkat optoelektronik
  • Lapisan tipis untuk riset sel surya
  • Pengembangan lapisan film sensor gas
  • Lapisan oksida fungsional untuk studi ilmu material

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—