Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Tin Oxide (SnO2) Sputtering Targets

Tin Oxide (SnO2) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 18.613.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 18.613.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Timah oksida (SnO2) adalah semikonduktor oksida logam tipe-n dengan celah pita lebar, yang banyak dipelajari sebagai oksida konduktif transparan. Sputtering target adalah material sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk melapisi film tipis pada substrat dalam proses riset dan industri.

  • Quantity: 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Elektroda konduktif transparan untuk riset display dan perangkat fotovoltaik
  • Lapisan film tipis sensor gas untuk pengembangan sensor kimia dan lingkungan
  • Lapisan aktif atau penyangga dalam studi transistor film tipis
  • Lapisan pelindung dan optik untuk substrat kaca maupun polimer

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—