Target sputtering timah oksida (tin oxide sputtering target) SnO2 dari Nanografi ini berbentuk cakram 2'' dengan ketebalan 0,250'' dan kemurnian 99,99%. Target ini menjadi bahan sumber pada sistem deposisi sputter, di mana atom-atom terkikis dari target lalu membentuk lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
Teknik sputtering dapat diterapkan pada substrat dengan beragam bentuk dan ukuran serta memberikan hasil yang konsisten. Proses ini cocok untuk proyek riset dan pengembangan skala kecil dan dapat ditingkatkan hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar.
Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya variabel memang membuat deposisi sputter cukup kompleks, namun hal ini memberi pengguna berpengalaman kendali yang tinggi atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) bila dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Analisis material melalui sputtering, misalnya spektrometri massa ion sekunder (SIMS) untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Kajian terkait pelapukan antariksa (space weathering) pada benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,99% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01SN20
- Material: Timah Oksida (SnO2)
- Ukuran: 2''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST01SN20
—
—