Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Tin Oxide (SnO2) Sputtering Targets

Tin Oxide (SnO2) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 23.529.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 23.529.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Target sputtering timah oksida (SnO2) adalah material sumber padat berbentuk keramik yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis. Timah oksida termasuk golongan semikonduktor oksida logam tipe-n dengan celah pita lebar serta oksida konduktif transparan, yang dihargai karena konduktivitas listriknya yang dipadukan dengan transparansi optik di rentang cahaya tampak.

  • Quantity: 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran.

  • Elektroda konduktif transparan untuk layar datar dan panel sentuh
  • Lapisan tipis dalam riset sel surya fotovoltaik dan sel surya organik
  • Lapisan sensing gas untuk pengembangan sensor semikonduktor oksida logam
  • Pembuatan prototipe transistor lapisan tipis dan perangkat semikonduktor
  • Lapisan fungsional untuk kaca arsitektur dan perangkat optik

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—