Target sputtering timah oksida (SnO2) adalah sumber padat keramik tersinter dari timah dioksida yang digunakan dalam proses physical vapor deposition seperti RF dan DC magnetron sputtering. Timah oksida termasuk dalam keluarga transparent conducting oxide (TCO), yaitu semikonduktor tipe-n dengan celah pita lebar. Dikategorikan sebagai nanomaterial, target ini mendukung deposisi lapisan tipis SnO2 yang terkontrol dan seragam untuk riset dan pengembangan di bidang elektronika dan perangkat energi.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran.
- Elektroda konduktif transparan untuk layar dan panel sentuh
- Lapisan sensor gas untuk sensor kimia dan lingkungan
- Lapisan transpor elektron pada sel surya perovskite dan lapisan tipis
- Transistor lapisan tipis dan pembuatan prototipe perangkat optoelektronik
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—