Target sputtering timah oksida (SnO2) adalah material sumber oksida keramik padat yang digunakan dalam proses physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis timah oksida. SnO2 termasuk dalam keluarga semikonduktor oksida logam transparan dan banyak diteliti karena sifat transparansi optik dan konduktivitas listriknya dalam bentuk lapisan tipis. Nanografi menyediakan target ini sebagai sumber sputtering berbasis nanomaterial untuk riset deposisi skala laboratorium dan pilot.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan konduktif transparan untuk riset display dan sel surya
- Lapisan sensing gas untuk pengembangan sensor gas oksida logam
- Riset thin-film transistor dan perangkat optoelektronik
- Studi lapisan fungsional dan pelindung
- Riset elektroda lapisan tipis untuk penyimpanan energi
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—