Target sputtering timah (Sn) adalah material sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD), yaitu proses ketika atom dilepaskan dari permukaan target dan diendapkan pada substrat untuk membentuk lapisan tipis. Timah merupakan unsur logam, dan targetnya disediakan dalam bentuk keping atau cakram padat untuk digunakan pada sistem sputtering vakum. Material merek Nanografi disediakan melalui AMI Scientific untuk keperluan laboratorium dan pengembangan.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Riset deposisi lapisan tipis pada lapisan logam dan paduan
- Pengembangan lapisan konduktif dan pelindung pada substrat
- Studi ilmu material terhadap lapisan berbasis timah dan sifatnya
- Pembuatan prototipe struktur lapisan tipis untuk perangkat elektronik dan optik
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—