Target sputtering titanium diboride (TiB2) adalah sumber boride keramik yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk menghasilkan lapisan tipis. TiB2 termasuk dalam golongan keramik maju, yaitu kelompok material yang dihargai karena kekerasan, ketahanan aus, dan konduktivitas listriknya. Target sputtering jenis ini digunakan untuk mengendapkan lapisan yang seragam pada substrat dalam proses lapisan tipis untuk riset maupun industri.
- Jumlah: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Lapisan tipis keras dan tahan aus untuk alat potong
- Lapisan pelindung untuk komponen yang terpapar abrasi
- Lapisan tipis keramik konduktif untuk riset elektronik dan elektroda
- Riset material lapisan tipis berbasis boride dengan sputtering PVD
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—