Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Titanium Boride (TiB2) Sputtering Targets

Titanium Boride (TiB2) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 23.838.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 23.838.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Titanium diborida (TiB2) adalah keramik refraktori dari golongan boride logam transisi. Material ini dikenal karena kekerasannya, titik leleh yang tinggi, dan konduktivitas listrik yang baik. Sputtering target berupa lempeng padat dan rapat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk melapiskan film tipis ke substrat melalui proses vakum yang terkontrol.

  • 1 piece

Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.

  • Lapisan pelindung keras dan tahan aus untuk pahat potong dan komponen mesin
  • Riset lapisan tipis mengenai sifat mekanik dan tribologi lapisan boride
  • Pengembangan lapisan elektroda dan penghalang difusi dalam studi film tipis elektronik
  • Eksperimen lapisan fungsional di laboratorium ilmu material

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—