Target sputtering titanium boride (TiB2) adalah material sumber padat hasil sintering yang digunakan dalam proses physical vapor deposition (PVD) seperti magnetron sputtering. TiB2 termasuk golongan borida logam transisi refraktori, yaitu material keramik yang dikenal karena kekerasan dan stabilitas kimianya. Target ini menyediakan titanium dan boron untuk membentuk lapisan tipis pada substrat untuk keperluan riset dan industri.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Lapisan tipis keras dan tahan aus pada perkakas dan komponen mekanik
- Riset lapisan tipis keramik refraktori dan borida
- Studi lapisan elektroda dan penghalang difusi dalam elektronika lapisan tipis
- Lapisan pelindung untuk komponen yang terpapar suhu tinggi atau lingkungan korosif
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—