Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Titanium Boride (TiB2) Sputtering Targets

Titanium Boride (TiB2) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 30.998.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 30.998.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Titanium diboride (TiB2) adalah senyawa keramik dari titanium dan boron, termasuk dalam golongan diborida logam transisi. Material ini dihargai karena kekerasannya, stabilitas termalnya, dan konduktivitas listriknya. Target sputtering TiB2 ini disediakan sebagai material sumber untuk physical vapor deposition, yang digunakan untuk membentuk lapisan tipis pada substrat.

  • Jumlah: 1 buah

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Deposisi lapisan pelindung keras dan tahan aus untuk alat potong dan komponen mekanik
  • Pembuatan lapisan tipis konduktif listrik untuk riset elektronik dan sensor
  • Pengembangan lapisan penghalang dan difusi tipis dalam studi ilmu material
  • Penelitian lapisan tipis keramik untuk rekayasa permukaan pada suhu tinggi dan ketahanan korosi

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—