Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Titanium Boride (TiB2) Sputtering Targets

Titanium Boride (TiB2) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 30.457.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 30.457.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Target sputtering titanium diboride (TiB2) merupakan material sumber berbentuk keramik dari keluarga boride logam transisi. Dikenal karena kekerasan dan stabilitas kimianya, material ini digunakan dalam physical vapor deposition untuk menghasilkan lapisan tipis bagi aplikasi permukaan dan elektronik yang menuntut.

  • 1 piece

Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis, atau penawaran harga, silakan hubungi AMI Scientific.

  • Lapisan pelindung keras dan tahan aus pada alat potong serta komponen mekanik
  • Riset lapisan penghalang difusi pada perangkat mikroelektronika dan semikonduktor
  • Pengembangan elektroda dan kontak lapisan tipis untuk studi material elektronik
  • Riset lapisan tahan korosi dan oksidasi

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—