Target sputtering titanium dioksida (TiO2) adalah lempeng sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD), di mana material dilepaskan dari target lalu diendapkan ke substrat untuk membentuk lapisan tipis. TiO2 termasuk golongan oksida logam, yaitu kelompok material keramik yang banyak dipelajari karena sifat optik, dielektrik, dan fotokatalitiknya. Judul produk mencantumkan deskriptor 'elastomer', yang umumnya tidak berlaku untuk target sputtering berbahan oksida, sehingga mohon konfirmasi bentuk material yang tepat kepada AMI Scientific sebelum memesan.
- Jumlah: 1 buah
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan tipis TiO2 untuk pelapis optik dan anti-refleksi
- Riset fotokatalitik dan permukaan self-cleaning
- Lapisan dielektrik dalam pengembangan perangkat elektronik dan sensor
- Studi pelapis pelindung pada substrat kaca dan logam
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—