Target sputtering titanium dioxide (TiO2) adalah target keramik oksida padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk menghasilkan lapisan tipis. TiO2 termasuk golongan oksida logam, yaitu kelompok material keramik yang dihargai karena sifat optik dan dielektriknya.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan optik tipis untuk riset lapisan pemantul dan anti-pantul
- Pembuatan lapisan tipis fotokatalitik dan self-cleaning untuk kajian permukaan
- Pengembangan lapisan dielektrik dan lapisan penyangga pada riset perangkat elektronik dan fotovoltaik
- Kajian deposisi sputtering lapisan oksida logam pada berbagai substrat
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—