Target sputtering titanium dioxide (TiO2) adalah pelat sumber keramik padat dari golongan oksida logam. Material ini digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk melapisi substrat dengan lapisan tipis TiO2 di dalam ruang vakum. Daftar produk juga mencantumkan indium, yang mungkin berkaitan dengan cara target dilekatkan pada pelat pendukungnya; mohon konfirmasi detail ini kepada AMI Scientific sebelum memesan.
- Kuantitas: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran.
- Deposisi lapisan optik tipis untuk riset lapisan anti-pantul dan lapisan interferensi
- Pembuatan lapisan TiO2 fotokatalitik untuk riset permukaan dan lingkungan
- Pembuatan lapisan dielektrik dan oksida dalam riset elektronika lapisan tipis
- Pengembangan lapisan fungsional untuk studi ilmu material dan rekayasa permukaan
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—