Target sputtering titanium dioxide (TiO2) adalah material sumber keramik padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk menghasilkan lapisan tipis. TiO2 termasuk dalam keluarga oksida logam, golongan keramik yang banyak diteliti karena sifat optik, dielektrik, dan fotokatalitiknya. Produk ini mencantumkan indium pada judulnya, yang umumnya merujuk pada pengikatan indium antara target dan plat pendukungnya.
- Kuantitas: 1 buah
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan tipis optik, termasuk lapisan antirefleksi dan lapisan indeks bias tinggi
- Riset permukaan fotokatalitik dan self-cleaning
- Lapisan dielektrik dan transparan dalam pembuatan prototipe perangkat elektronik
- Pengembangan sel surya lapisan tipis dan sensor
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—