Target sputtering titanium dioxide (TiO2) adalah material target keramik oksida yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis di atas substrat. Produk ini tercantum sebagai varian yang mengandung indium, sehingga komposisi pastinya perlu dikonfirmasi bersama AMI Scientific sebelum digunakan. TiO2 termasuk golongan oksida logam dan banyak diteliti karena sifat permukaan serta optiknya.
- Jumlah: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan tipis untuk riset pelapis optik
- Studi permukaan fotokatalitik dan swabersih
- Pengembangan lapisan oksida dielektrik dan transparan
- Pembuatan prototipe sensor dan perangkat elektronik
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—