Target sputtering titanium dioxide (TiO2) adalah sumber keramik oksida padat berdensitas tinggi yang digunakan dalam physical vapor deposition untuk menghasilkan lapisan tipis. TiO2 termasuk golongan oksida logam, yang dikenal karena sifat optik, dielektrik, dan fotokatalitiknya. Judul produk ini juga menyebutkan indium, jadi mohon konfirmasikan detail pengikatan (bonding) dan backing target kepada AMI Scientific sebelum memesan.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran harga.
- Deposisi lapisan coating optik dalam riset lapisan tipis
- Pembuatan lapisan fotokatalitik dan permukaan self-cleaning
- Pengembangan lapisan dielektrik untuk perangkat elektronik dan sensor
- Riset material lapisan tipis oksida menggunakan sistem sputtering RF atau DC
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—