Sputtering target titanium dioxide (TiO2) adalah material sumber keramik oksida yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis pada substrat. Produk ini berupa target berbentuk cakram dengan tampilan warna beige hingga putih. Deskripsi produk juga menyebut indium, yang mungkin menunjukkan konfigurasi bonding atau backing, sehingga konstruksinya perlu dikonfirmasi sebelum digunakan. Produk ini termasuk golongan sputtering target oksida yang digunakan dalam riset lapisan tipis dan pengembangan pelapisan.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis, atau penawaran, hubungi AMI Scientific.
- Riset lapisan tipis optik
- Studi permukaan fotokatalitik dan self-cleaning
- Pengembangan lapisan dielektrik untuk riset perangkat elektronik
- Riset material energi, termasuk riset lapisan tipis sel surya
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—
