Target sputtering titanium dioksida (titanium dioxide sputtering target) TiO2 dari Nanografi ini berukuran 1'' dengan ketebalan 0,125'', memiliki kemurnian 99,99% dan berwarna krem hingga putih. Target ini digunakan sebagai bahan sumber untuk membentuk lapisan tipis (thin film) TiO2 melalui proses sputtering.
Pada deposisi sputter, material dikikis dari target lalu diendapkan ke substrat, misalnya wafer silikon. Metode ini cocok untuk substrat dengan beragam bentuk dan ukuran, memberikan hasil yang dapat diulang, serta dapat ditingkatkan dari skala riset dan pengembangan hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar.
Tergantung parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau pada substrat. Banyaknya parameter membuat sputtering menjadi proses yang kompleks, namun justru memberi kendali besar atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis titanium dioksida pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis material melalui pengikisan, seperti pada spektrometri massa ion sekunder (SIMS), untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor berkonsentrasi sangat rendah.
- Kajian pelapukan antariksa (space weathering), yaitu perubahan sifat fisik dan kimia benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan akibat sputtering.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,99% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | Krem hingga Putih |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01TI53
- Material: Titanium Dioksida (TiO2)
- Ukuran: 1''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode Produk: NG0ST01TI53
—
—