Target sputtering Titanium Dioxide (TiO2) adalah material sumber berbentuk keramik oksida yang digunakan dalam physical vapor deposition (sputtering) untuk membentuk lapisan tipis titanium dioksida pada substrat. TiO2 termasuk golongan oksida logam fungsional dan dikenal karena sifat optik, dielektrik, dan fotokatalitiknya, sehingga target ini umum dipilih untuk riset dan pengembangan lapisan tipis.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Riset lapisan fotokatalitik dan swabersih (self-cleaning)
- Lapisan tipis optik, seperti lapisan indeks bias tinggi dan antirefleksi
- Lapisan dielektrik dalam studi perangkat elektronik dan mikroelektronika
- Lapisan fungsional untuk riset sel surya dye-sensitized dan sel surya lapisan tipis lainnya
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—