Target sputtering titanium dioxide (TiO2) adalah sumber keramik oksida yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis TiO2 pada substrat. TiO2 termasuk golongan oksida logam transisi dan banyak diteliti karena sifat optik, dielektrik, dan fotokatalitiknya. Target ini dipasok sebagai pelat padat yang tererosi akibat pemboman ion di dalam ruang sputtering, lalu melepaskan material yang mengendap membentuk film yang seragam.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan tipis optik, seperti lapisan anti-refleksi dan dielektrik
- Riset film fotokatalitik dan permukaan self-cleaning
- Lapisan dielektrik dan lapisan penyangga pada studi perangkat elektronik dan fotonik
- Lapisan fungsional dalam riset energi, termasuk pengembangan sel surya dan perangkat perovskite
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—