Target sputtering titanium dioksida (titanium dioxide sputtering target) TiO2 dari Nanografi ini berbentuk cakram berukuran 2'' dengan ketebalan 0,125'' dan kemurnian 99,99%. Warnanya krem hingga putih. Target ini menjadi sumber material dalam sistem deposisi sputter, tempat atom dilepaskan dari target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
Sputtering merupakan teknik yang sudah teruji untuk melapisi substrat dengan beragam bentuk dan ukuran. Prosesnya dapat diulang dengan konsisten dan cocok untuk proyek riset skala kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar. Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat, sehingga pengguna berpengalaman dapat mengendalikan pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan dengan cermat.
Selain untuk deposisi lapisan, target sputtering juga dimanfaatkan dalam proses etsa dan teknik analisis yang mengikis material secara terkendali.
- Deposisi lapisan tipis TiO2 pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Analisis material dengan spektrometri massa ion sekunder (SIMS) untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Pekerjaan riset dan pengembangan yang dapat ditingkatkan ke batch produksi dengan area substrat menengah hingga besar.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,99% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01TI57
- Material: Titanium Dioksida (TiO2)
- Ukuran: 2''
- Ketebalan: 0,125''
- Warna: Krem hingga putih
- Kode produk: NG0ST01TI57
—
—