Target sputtering titanium dioxide (TiO2) adalah lempengan keramik oksida padat yang digunakan sebagai bahan sumber dalam deposisi uap fisika. Selama proses sputtering, ion berenergi tinggi melepaskan material dari permukaan target, yang kemudian mengendap pada substrat dan membentuk lapisan tipis TiO2. TiO2 termasuk golongan keramik oksida logam dan banyak dipelajari karena sifat optik serta fungsionalnya.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran yang disesuaikan dengan kebutuhan deposisi Anda.
- Deposisi lapisan tipis optik, seperti lapisan anti-pantul dan lapisan interferensi, dalam riset material
- Riset lapisan permukaan fotokatalitik dan swabersih
- Pengembangan lapisan dielektrik untuk studi perangkat elektronik dan semikonduktor
- Pembuatan lapisan tipis untuk riset sensor gas dan konversi energi
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—