Target sputtering titanium dioksida (titanium dioxide sputtering target) dari Nanografi ini berbentuk cakram berukuran 2'' dengan ketebalan 0,250'', kemurnian 99,99%, dan berwarna krem hingga putih. Produk ini digunakan sebagai bahan sumber untuk membuat lapisan tipis TiO2 melalui proses sputtering.
Pada deposisi sputter, material dikikis dari target lalu diendapkan ke substrat, misalnya wafer silikon. Metode ini dapat dipakai untuk beragam material serta substrat dengan bentuk dan ukuran berbeda. Hasilnya dapat diulang dengan konsisten, dan skalanya dapat ditingkatkan dari proyek riset dan pengembangan kecil hingga batch produksi dengan area substrat sedang sampai besar.
Tergantung parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter membuat sputtering cukup kompleks, namun memberi kendali yang luas atas pertumbuhan dan struktur mikro lapisan.
- Deposisi lapisan tipis titanium dioksida pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan etsa yang sangat anisotropik dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Analisis material melalui pengikisan, seperti pada spektrometri massa ion sekunder (SIMS), untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor berkadar sangat rendah.
- Penelitian terkait pelapukan antariksa (space weathering), yaitu perubahan permukaan benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan akibat sputtering.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,99% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01TI59
- Material: Titanium Dioksida (TiO2)
- Ukuran: 2''
- Ketebalan: 0,250''
- Warna: Krem hingga Putih
- Kode produk: NG0ST01TI59
—
—