Target sputtering titanium dioxide (TiO2) adalah cakram atau lempeng padat dan rapat dari bahan keramik oksida logam yang digunakan dalam proses physical vapor deposition (PVD). Selama sputtering magnetron, ion berenergi tinggi menghantam permukaan target dan melepaskan atom yang kemudian mengendap pada substrat, membentuk lapisan tipis. Target sputtering dirancang untuk berfungsi sebagai katoda pada sistem deposisi, dan bahan target sebagian besar menentukan komposisi lapisan yang dihasilkan. TiO2 termasuk dalam golongan keramik oksida fungsional, yang dihargai karena sifat optik, dielektrik, dan fotoaktifnya.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan tipis optik, termasuk lapisan dengan indeks bias tinggi dan lapisan antirefleksi
- Riset lapisan fotokatalitik dan swabersih
- Lapisan dielektrik dalam riset perangkat elektronik dan sensor
- Pengembangan sel surya lapisan tipis dan fotovoltaik
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—