Target sputtering titanium dioksida (titanium dioxide sputtering target) dari Nanografi ini berukuran 3'' dengan ketebalan 0,125'', memiliki kemurnian 99,9% dan berwarna krem hingga putih. Produk ini digunakan sebagai bahan sumber untuk membentuk lapisan tipis TiO2 melalui proses sputtering.
Pada deposisi sputter, material dari target dikikis lalu dipindahkan ke substrat seperti wafer silikon, dan metode ini dapat melapisi substrat dengan berbagai bentuk dan ukuran. Prosesnya dapat diulang dengan hasil konsisten, sehingga dapat ditingkatkan dari skala riset dan pengembangan hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar.
Tergantung parameter proses, reaksi kimia dapat berlangsung di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter membuat sputtering cukup kompleks, namun memberi keleluasaan besar bagi pengguna berpengalaman untuk mengendalikan pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis titanium dioksida pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis material melalui pengikisan, seperti pada spektrometri massa ion sekunder (SIMS), untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Penelitian sputtering sebagai salah satu bentuk pelapukan antariksa (space weathering) pada benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,9% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01TI61
- Material: Titanium Dioksida (TiO2)
- Ukuran: 3''
- Ketebalan: 0,125''
- Warna: Krem hingga Putih
- Kode produk: NG0ST01TI61
—
—