Target sputtering titanium dioxide (TiO2) adalah sumber oksida keramik yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis. Selama proses sputtering, ion berenergi tinggi melepaskan material dari permukaan target, yang kemudian mengendap di atas substrat sebagai lapisan yang seragam. TiO2 termasuk golongan oksida logam dan banyak dipelajari karena sifat optik, dielektrik, dan fotokatalitiknya.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Lapisan optik, seperti lapisan antirefleksi dan lapisan dengan indeks bias tinggi
- Lapisan tipis fotokatalitik dan self-cleaning untuk riset permukaan
- Lapisan dielektrik dalam riset perangkat elektronik dan semikonduktor
- Sensor gas dan pengembangan lapisan oksida fungsional
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—