Target sputtering titanium dioxide (TiO2) adalah material target keramik oksida yang digunakan dalam physical vapor deposition (sputtering) untuk mendeposisikan lapisan tipis titanium dioxide pada substrat. Sebagai oksida logam dalam golongan material keramik, TiO2 dihargai karena sifat optik dan fotoaktifnya. Target berfungsi sebagai material sumber yang di-sputter di dalam ruang vakum untuk membentuk lapisan tersebut.
- 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Riset lapisan optik tipis
- Studi fotokatalitik dan permukaan self-cleaning
- Pengembangan lapisan dielektrik dan pasivasi
- Riset lapisan sel surya fotovoltaik dan dye-sensitized
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—