Target sputtering titanium dioxide (TiO2) adalah material sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis pada substrat. TiO2 adalah oksida logam dalam golongan keramik oksida fungsional, yang banyak diteliti karena sifat optik dan fotoaktifnya. Target sputtering Nanografi disediakan untuk keperluan riset dan pengembangan.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan tipis optik dan anti-refleksi
- Lapisan permukaan fotokatalitik dan swabersih
- Lapisan dielektrik pada perangkat elektronik dan optoelektronik
- Riset lapisan tipis untuk sel surya dan sensor gas
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—