Target sputtering adalah material sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis pada substrat. Titanium dioksida (TiO2) adalah keramik oksida logam dari golongan oksida logam transisi, yang dihargai karena sifat optik dan fotoaktifnya. Target sputtering TiO2 menyediakan sumber terkontrol untuk mendeposisikan film titanium dioksida dalam proses pelapisan skala laboratorium dan pilot.
- Jumlah: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Lapisan tipis optik seperti lapisan anti-refleksi dan lapisan interferensi
- Riset lapisan permukaan fotokatalitik dan self-cleaning
- Lapisan dielektrik untuk studi perangkat elektronik dan sensor
- Riset sel surya dye-sensitized dan lapisan tipis
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—