Target sputtering titanium dioksida (TiO2) adalah material sumber berbahan keramik oksida yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk menghasilkan lapisan tipis. Titanium dioksida termasuk golongan oksida logam dan dikenal karena sifat optik, dielektrik, dan fotokatalitiknya. Selama proses sputtering, target dibombardir ion berenergi tinggi sehingga material terlepas dan terdeposisi pada substrat sebagai lapisan yang seragam.
- Jumlah: 1 buah
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan fotokatalitik dan pembersih mandiri
- Lapisan tipis optik, seperti lapisan anti-refleksi dan dielektrik
- Lapisan transpor elektron dalam riset sel surya
- Pengembangan sensor gas berbasis lapisan tipis
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—