Target sputtering titanium dioxide (TiO2) merupakan material sumber keramik padat yang terbuat dari oksida logam. Material ini digunakan dalam proses physical vapor deposition (PVD), khususnya magnetron sputtering, untuk mendeposisikan lapisan tipis titanium dioxide pada substrat untuk keperluan riset dan pengembangan. TiO2 termasuk dalam golongan keramik oksida fungsional, yang dikenal karena sifat optik dan fotokatalitiknya.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis, atau penawaran harga.
- Lapisan tipis optik dan tumpukan multilapis
- Riset permukaan fotokatalitik dan swabersih
- Lapisan dielektrik untuk studi perangkat elektronik dan sensor
- Lapisan pelindung dan fungsional pada substrat kaca atau logam
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—