Target sputtering titanium dioksida (titanium dioxide sputtering target) TiO2 dari Nanografi ini berukuran 6'' dengan ketebalan 0,250'', kemurnian 99,99%, dan berwarna krem hingga putih. Target ini digunakan sebagai bahan sumber untuk membentuk lapisan tipis TiO2 melalui proses sputtering.
Pada deposisi sputter, material dikikis dari target lalu diendapkan pada substrat, misalnya wafer silikon. Metode ini dapat melapisi substrat dengan beragam bentuk dan ukuran, memberikan hasil yang berulang secara konsisten, serta dapat ditingkatkan dari skala riset dan pengembangan hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar.
Tergantung parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter memang membuat prosesnya kompleks, namun memberi kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis TiO2 pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Analisis material melalui pengikisan, misalnya spektrometri massa ion sekunder (SIMS) untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam kadar sangat rendah.
- Kajian pelapukan antariksa (space weathering) yang mengubah sifat benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,99% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | Krem hingga putih |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01TI69
- Material: Titanium Dioksida (TiO2)
- Ukuran: 6''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST01TI69
—
—