Target sputtering titanium dioxide (TiO2) adalah sumber oksida keramik padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membuat lapisan tipis. Selama proses sputtering, ion berenergi tinggi menghantam permukaan target sehingga material TiO2 terlepas dan mengendap di atas substrat sebagai lapisan yang seragam. TiO2 termasuk golongan oksida logam dan dikenal karena stabilitas optik dan kimianya.
- 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Lapisan optik, seperti lapisan anti-refleksi dan lapisan interferensi
- Lapisan tipis fotokatalitik dan swabersih
- Lapisan dielektrik dalam riset perangkat elektronik dan semikonduktor
- Lapisan pelindung dan fungsional untuk kaca maupun substrat lain
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—