Target sputtering titanium dioxide (TiO2) adalah bahan sumber berbentuk keping padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membuat lapisan tipis. Proses sputtering menembakkan ion berenergi tinggi ke target sehingga atom terlepas dan terdeposisi pada substrat. TiO2 termasuk golongan oksida logam yang dihargai karena sifat optik dan semikonduktornya. Produk ini berupa keramik berwarna krem hingga putih, tersedia dalam ukuran 3 inci dengan tebal 0,125 inci dan kemurnian 99,99%.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan tipis optik seperti lapisan anti-pantul dan lapisan interferensi
- Riset lapisan TiO2 fotokatalitik dan swabersih
- Lapisan dielektrik dan lapisan penyangga pada studi perangkat elektronik dan semikonduktor
- Fabrikasi lapisan tipis sensor serta pengembangan oksida konduktif transparan
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—
