Titanium Nitride (TiN) adalah senyawa nitrida keramik dari titanium, dikenal luas karena kekerasannya, stabilitas kimianya, dan warnanya yang menyerupai emas. Material ini umum digunakan sebagai bahan lapisan tipis. Sputtering target adalah keping sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk mendeposisikan TiN dan film terkait ke substrat dalam proses riset maupun industri.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan keras tahan aus untuk pahat potong dan komponen mekanik
- Lapisan dekoratif dan pelindung pada permukaan logam dan kaca
- Lapisan penghalang difusi dalam riset mikroelektronika dan semikonduktor
- Film optik dan fungsional di laboratorium ilmu material
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—