Target sputtering titanium nitride (TiN) adalah pelat sumber padat dari senyawa keramik keras yang tersusun dari titanium dan nitrogen. Target ini digunakan dalam proses physical vapor deposition (PVD), di mana atom dilepaskan dari target dan diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat. Judul produk juga menyebutkan indium, yang mungkin berkaitan dengan konfigurasi pengikatan (bonding) atau backing pada target.
- 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Riset deposisi lapisan tipis untuk lapisan pelindung keras
- Pengembangan lapisan tahan aus dan dekoratif
- Studi lapisan tipis optik
- Riset lapisan penghalang difusi dalam mikroelektronika
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—