Titanium nitride (TiN) adalah senyawa keramik dari titanium dan nitrogen, termasuk golongan nitrida logam transisi. Material ini banyak dipelajari karena kekerasannya, stabilitas kimianya, dan penampilannya yang menyerupai emas. Sputtering target TiN adalah cakram padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk melapiskan film tipis titanium nitride pada substrat untuk keperluan riset dan pengembangan.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan pelindung keras pada alat potong dan komponen tahan aus
- Lapisan dekoratif dengan tampilan menyerupai emas
- Lapisan penghalang difusi dalam riset mikroelektronika dan semikonduktor
- Studi film tipis dalam ilmu material dan rekayasa permukaan
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—