Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Titanium Nitride (TiN) Sputtering Targets

Titanium Nitride (TiN) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 16.910.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 16.910.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Titanium nitride (TiN) adalah nitrida logam transisi golongan keramik yang dikenal karena ketahanan aus dan tampilan metaliknya yang khas. Target sputtering TiN merupakan material sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk melapisi substrat dengan lapisan tipis dalam proses riset maupun industri.

  • 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Lapisan pelindung keras untuk alat potong dan permukaan tahan aus
  • Lapisan dekoratif pada logam, kaca, dan komponen konsumen
  • Lapisan penghalang difusi dalam riset mikroelektronika dan semikonduktor
  • Studi lapisan tipis untuk lapisan elektroda dan pelapis optik

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—