Target sputtering titanium nitride (TiN) adalah material sumber berbasis keramik padat yang terbuat dari titanium nitrida, senyawa refraktori dari titanium dan nitrogen. Target ini digunakan dalam proses physical vapor deposition (PVD) untuk mendeposisikan lapisan tipis TiN pada substrat, membentuk lapisan pelindung yang keras, tahan aus, dan berwarna emas.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Lapisan pelindung keras pada perkakas potong dan komponen mesin yang rentan aus
- Lapisan dekoratif pada logam, kaca, dan permukaan produk konsumen
- Lapisan penghalang difusi dalam riset lapisan tipis dan perangkat semikonduktor
- Studi lapisan tipis untuk pengembangan lapisan optik dan fungsional
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—