Target sputtering Titanium Nitride (TiN) merupakan material sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk menghasilkan lapisan tipis titanium nitrida. TiN termasuk golongan keramik nitrida logam transisi, yang dikenal karena kekerasannya, stabilitas kimianya, dan warna menyerupai emas yang khas. Selama proses sputtering, ion berenergi tinggi menghantam permukaan target dan melepaskan atom yang kemudian mengendap pada substrat, membentuk lapisan yang seragam untuk keperluan riset dan industri.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Lapisan pelindung keras pada perkakas potong dan komponen tahan aus
- Lapisan penghalang difusi dalam riset lapisan tipis dan perangkat mikroelektronika
- Lapisan tipis dekoratif dan optik pada substrat kaca, logam, dan polimer
- Pengembangan lapisan elektroda dan kontak dalam studi ilmu material
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—