Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Titanium Nitride (TiN) Sputtering Targets

Titanium Nitride (TiN) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 33.166.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 33.166.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Titanium nitrida (TiN) adalah senyawa keramik keras dari titanium dan nitrogen, dikenal karena ketahanan aus, stabilitas kimia, serta warna menyerupai emas. Target sputtering ini merupakan material sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis TiN pada substrat untuk keperluan riset dan industri.

  • Quantity: 1 piece

Untuk spesifikasi teknis, sertifikat analisis, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.

  • Lapisan pelindung keras pada alat potong dan komponen mesin
  • Lapisan dekoratif berwarna emas pada permukaan logam dan kaca
  • Lapisan penghalang difusi pada perangkat semikonduktor dan mikroelektronika
  • Film tipis elektroda dan optik dalam riset material

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—