Target sputtering Tungsten Oxide (WO3) adalah material sumber berbahan keramik yang digunakan dalam physical vapor deposition untuk membentuk lapisan tipis tungsten oxide pada substrat. Tungsten oxide termasuk golongan oksida logam transisi, yang dikenal memiliki sifat elektrokromik, sensitivitas terhadap gas, dan fotokatalitik. Target ini disediakan dalam bentuk yang kompatibel dengan sistem sputtering standar, sehingga mendukung pertumbuhan lapisan yang terkendali dan dapat direproduksi dalam penelitian.
- Kuantitas: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Riset lapisan tipis elektrokromik untuk jendela pintar dan layar
- Pengembangan lapisan sensor gas
- Studi lapisan pelapis fotokatalitik
- Deposisi lapisan tipis oksida fungsional di laboratorium ilmu material
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—