Target sputtering tungsten oxide (WO3) adalah material sumber yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk mendeposisikan lapisan tipis tungsten oxide. Tungsten oxide termasuk golongan oksida logam transisi yang banyak dipelajari untuk perilaku lapisan tipis fungsional. Daftar produk ini juga mencantumkan indium sebagai atribut konfigurasi target.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan tipis elektrokromik untuk penelitian jendela pintar dan display
- Lapisan sensing gas untuk pengembangan sensor oksida logam
- Studi lapisan fotokatalitik dan optik
- Elektronika lapisan tipis dan pembuatan prototipe perangkat
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—