Sputtering target tungsten oxide (WO3) adalah bahan sumber padat dan rapat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk melapisi substrat dengan lapisan tipis. Tungsten oxide termasuk golongan oksida logam transisi, yang dikenal karena sifat optik, listrik, dan kimianya yang fungsional. Sputtering target menyediakan sumber material yang konsisten untuk pertumbuhan lapisan yang terkendali dalam skala laboratorium dan pilot.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan tipis elektrokromik untuk riset smart window
- Lapisan sensor gas untuk pengembangan sensor oksida logam
- Studi lapisan fotokatalitik dan lapisan fungsional
- Fabrikasi perangkat lapisan tipis di laboratorium akademik dan R&D
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—