Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Tungsten Oxide (WO3) Sputtering Targets

Tungsten Oxide (WO3) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 31.850.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 31.850.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Target sputtering tungsten oxide (WO3) adalah pelat keramik dari oksida logam transisi yang digunakan sebagai material sumber dalam proses sputtering physical vapor deposition (PVD). Proses ini memindahkan WO3 ke substrat untuk membentuk lapisan tipis yang seragam. Tungsten oxide termasuk golongan oksida anorganik fungsional yang dikenal karena respons optik dan listriknya, dan target ini ditujukan untuk alur kerja riset dan pengembangan.

  • 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Lapisan tipis elektrokromik untuk riset jendela pintar dan display
  • Lapisan sensing gas untuk pengembangan sensor oksida logam
  • Studi fotokatalisis dan lapisan tipis terkait energi
  • Lapisan optik fungsional di laboratorium ilmu material

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—